Plasma, der vierte Aggregatzustand, ist eine ionisierte gasförmige Substanz, die aus Atomen besteht, der einige Elektronen entzogen wurden und bei der die Ionisierung der Atome positive und negative Ionen erzeugt. Dieses ionisierte Gas besteht aus Atomen, Molekülen, Atomgruppen, Ionen und Elektronen. Durch die Anwendung auf der Oberfläche von Objekten kann eine ultrareine Reinigung, Oberflächenaktivierung, Ätzung und Plasma-Oberflächenbeschichtung von Objekten erreicht werden.
Die akustische Rastertomographie (SAT) ist in der Halbleiterindustrie ein wertvolles Werkzeug für die zerstörungsfreie Prüfung und Bewertung von Halbleitermaterialien und -geräten. Diese Technologie nutzt Schallwellen...
Vergleichen Sie Ultraschall- und Plasmareinigung, um die richtige Methode zur Oberflächenvorbereitung auszuwählen. Der Einsatz von Plasmareinigungsprozessen erfordert eine hochzuverlässige Haftung beim Kleben, Vergießen oder Beschichten. Verwenden Sie die Ultraschallreinigung, wenn Ihr Fertigungsziel darin besteht, große Rückstände zu entfernen.
