Plasma, aine neljas olek, on ioniseeritud gaasiline aine, mis koosneb aatomitest, millest mõned elektronid on eemaldatud ning positiivsed ja negatiivsed ioonid tekivad pärast aatomite ioniseerimist. See ioniseeritud gaas koosneb aatomitest, molekulidest, aatomirühmadest, ioonidest ja elektronidest. Selle kasutamine objektide pinnal võib saavutada ülipuhta puhastamise, pinna aktiveerimise, söövitamise ja esemete plasmapinna katmise.
Skaneeriv akustiline tomograafia (SAT) on pooljuhtidetööstuses väärtuslik tööriist pooljuhtmaterjalide ja -seadmete mittepurustavaks testimiseks ja hindamiseks. See tehnoloogia kasutab heli...
Õige pinna ettevalmistusmeetodi valimiseks võrrelge ultraheli- ja plasmapuhastust. Plasmapuhastuse kasutamine järgnevas protsessis nõuab liimimiseks, kihistamiseks või katmiseks väga usaldusväärset nakkumist. Kasutage ultrahelipuhastust, kui teie tootmise eesmärk on puistejäätmete eemaldamine.
