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플라즈마 표면 기술의 원리 소개

물질의 네 번째 상태인 플라즈마는 일부 전자가 벗겨지고 원자가 이온화된 후 생성된 양이온과 음이온으로 구성된 원자로 구성된 이온화된 기체 물질입니다. 이 이온화된 가스는 원자, 분자, 원자단, 이온 및 전자로 구성됩니다. 물체 표면에 적용하면 물체의 초청정 세정, 표면 활성화, 에칭, 플라즈마 표면 코팅이 가능합니다.

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반도체 산업에서 주사 음향 단층 촬영을 사용하는 방법은 무엇입니까?

SAT(Scanning Acoustic Tomography)는 반도체 재료 및 장치의 비파괴 테스트 및 평가를 위한 반도체 산업의 귀중한 도구입니다. 이 기술은 소리와 사운드를 활용합니다.

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플라즈마 세척과 초음파 세척의 차이점은 무엇입니까?

올바른 표면 처리 방법을 선택하려면 초음파 세척과 플라즈마 세척을 비교하십시오. 플라즈마 세척 다운스트림 공정을 사용하면 본딩, 포팅 또는 코팅을 위한 높은 신뢰성의 접착력이 요구됩니다. 제조 목표가 대량 잔해물을 제거하는 것이라면 초음파 세척을 사용하십시오.

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