লেন্স অপটিক্যাল ইমেজিং সিস্টেমের একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। একটি উদাহরণ হিসাবে VR AR ইমেজিং সিস্টেম নিলে, লেন্সের অবশিষ্ট চাপ নিম্নলিখিত দুটি নেতিবাচক প্রভাব ফেলবে।
লেন্সের চাপ অপটিক্যাল বিকৃতি ঘটাতে পারে, যা লেন্সের আকৃতি এবং পৃষ্ঠের নির্ভুলতা পরিবর্তন করে, যার ফলে অপটিক্যাল সরঞ্জামের ইমেজিং গুণমানকে প্রভাবিত করে। স্ট্রেস লেন্সের বাঁকানো এবং বিকৃতি ঘটাবে, ফলে বিকৃতি ঘটবে, আলো ফোকাস করতে অক্ষম হবে, এইভাবে চিত্রের স্বচ্ছতা এবং রেজোলিউশন হ্রাস পাবে। এছাড়াও, লেন্সের চাপও অপটিক্যাল যন্ত্রপাতির বিচ্ছুরণ প্রভাবের কারণ হতে পারে, লেন্সে বিভিন্ন তরঙ্গদৈর্ঘ্যের সাথে আলোর বিভিন্ন প্রেরণ গতির নেতৃত্ব দেয়, অবশেষে বর্ণবিকৃতির বিকৃতি ঘটায়।
লেন্সের চাপ লেন্সের আকৃতি এবং আকারে পরিবর্তন আনতে পারে, যা অপটিক্যাল ডিভাইসের স্থায়িত্বকে প্রভাবিত করতে পারে। স্ট্রেস লেন্সকে বিকৃত করবে, যার ফলে লেন্সের পৃষ্ঠের অপটিক্যাল প্রতিফলন প্রভাব পরিবর্তন হবে, যার ফলে অপটিক্যাল পাথের সংক্রমণ এবং প্রতিফলনকে প্রভাবিত করবে। স্ট্রেস লেন্স উপাদানের মাইক্রোস্ট্রাকচারেও পরিবর্তন ঘটাবে, লেন্সের প্রতিসরণ সূচক এবং বিচ্ছুরণ বৈশিষ্ট্যে পরিবর্তন ঘটায়, যার ফলে আলো এবং ইমেজিং প্রভাবের বিস্তারকে প্রভাবিত করে।
সাধারণত ব্যবহৃত লেন্স স্ট্রেস পরিমাপের পদ্ধতিগুলির মধ্যে রয়েছে অপটিক্যাল, যান্ত্রিক এবং তাপীয় উপায়। অপটিক্যাল পদ্ধতিটি পরোক্ষভাবে স্ট্রেসের অস্তিত্ব এবং মাত্রাকে প্রতিফলিত করতে ফেজ পার্থক্য (অপটিক্যাল পাথের পার্থক্য, অপটিক্যাল রিটার্ডেশন) পরিমাপ করার জন্য আলোক স্থিতিস্থাপকতার নীতি ব্যবহার করে। দ Suzhou PTC অপটিক্যাল ইন্সট্রুমেন্টস দ্বারা চালু করা সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয় পোলারিস্কোপ লেন্স নির্মাতাদের দ্রুত এবং সঠিকভাবে লেন্সের ভিতরে চাপের কারণে অপটিক্যাল প্রতিবন্ধকতা পরিমাপ করতে সাহায্য করতে পারে।
নীচের পরিসংখ্যানগুলিতে, মাউন্ট করার আগে এবং মাউন্ট করার পরে লেন্সের চাপ প্রদর্শিত হয়।
মাউন্ট করার আগে অপটিক্যাল প্রতিবন্ধকতা (সর্বোচ্চ: 6.213nm, ave: 1.882nm)
মাউন্ট করার পরে অপটিক্যাল প্রতিবন্ধকতা (সর্বোচ্চ: 15.116nm, ave: 8.477nm)
এটি লক্ষ্য করা কঠিন নয় যে মাউন্টিং প্রক্রিয়া চলাকালীন অতিরিক্ত সমাবেশ চাপ প্রবর্তিত হয়। আশীর্বাদ শক্তি, সমর্থন পদ্ধতি এবং ইনস্টলেশন প্রক্রিয়া অপ্টিমাইজ করে, সমাবেশ চাপ অনেকাংশে হ্রাস করা যেতে পারে।
