| Наявність: | |
|---|---|
| кількість: | |
◇◇ Особливості ◇◇
Безперервне онлайн-виробництво забезпечує безперебійне з’єднання з попередніми та наступними процесами, зменшуючи ручну обробку, знижуючи витрати та кількість помилок.
Умови вакууму можна добре контролювати, а параметри процесу (тиск повітря, склад газу, потужність тощо) легко точно регулювати та повторювати, забезпечуючи стабільність між партіями.
Висока рівномірність обробки: добре розроблені електродні та камерні структури в поєднанні з контролем поля потоку газу забезпечують рівномірну обробку заготовок великої площі та складної форми.
Висока надійність. Завдяки конструкції промислового класу для ключових компонентів (таких як вакуумні насоси, радіочастотні/мікрохвильові генератори та відповідні пристрої) вибрано високоякісні продукти, щоб забезпечити стабільність і надійність тривалої безперервної роботи.
Адаптація до складних заготовок: завдяки розумно сконструйованим інструментальним пристосуванням і конвеєрним системам він може обробляти плоскі, тривимірні вигнуті заготовки та деталі неправильної форми.
Плазмова чистка пропонує екологічно чисту, ефективну та контрольовану суху альтернативу традиційним методам очищення на основі розчинників.
◇◇ Технічні характеристики ◇◇
Розмір продукту |
Довжина: 150-270 мм, Ширина: 35-95 мм |
Розмір реакційної камери |
320 (Ш) × 610 (Г) × 50 (В) мм |
Ефективність |
4 канали з 4 шт., прибл. 500 шт/год |
Генератор плазми |
Частота 13,56 МГц, регульована потужність 0 - 600 Вт з автоматичним узгодженням імпедансу. |
Система газового тракту |
Стандартна конфігурація включає 2 канали (O₂/Ar/H₂), контрольовані масовими витратомірами, регульована витрата газу 0-200мл/хв. |
Система контролю |
Сенсорний екран + ПЛК повністю автоматичне керування |
Розмір обладнання |
2140 (Ш) × 1340 (Г) × 1760 (В) мм |
◇◇ Область застосування ◇◇
Поле напівпровідників IC, лікування, друковані плати, автомобільна електроніка, аерокосмічна промисловість тощо