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◇◇ Recursos ◇◇
A produção contínua on-line permite uma conexão perfeita com processos anteriores e subsequentes, reduzindo o manuseio manual, reduzindo custos e taxas de erro.
As condições de vácuo são altamente controláveis e os parâmetros do processo (pressão do ar, composição do gás, potência, etc.) são fáceis de regular e repetir com precisão, garantindo estabilidade entre lotes.
Alta uniformidade de tratamento: Estruturas de eletrodo e câmara bem projetadas, combinadas com controle de campo de fluxo de gás, permitem o tratamento uniforme de peças de trabalho de grandes áreas e formatos complexos.
Alta confiabilidade: Com o design de nível industrial, produtos de alta qualidade são selecionados para componentes principais (como bombas de vácuo, geradores de radiofrequência/microondas e dispositivos correspondentes) para garantir estabilidade e confiabilidade de operação contínua a longo prazo.
Adaptabilidade a peças de trabalho complexas: por meio de acessórios de ferramentas e sistemas de transporte razoavelmente projetados, ele pode manusear peças de trabalho planas, curvas 3D e de formato irregular.
A limpeza a plasma oferece uma alternativa a seco ecológica, eficiente e controlável aos métodos tradicionais de limpeza à base de solvente.
◇◇ Técnicas Especificações ◇◇
Tamanho do produto |
Comprimento: 150-270 mm, Largura: 35-95 mm |
Tamanho da câmara de reação |
320(L) × 610(P) × 50(A) mm |
Eficiência |
4 canais com 4 peças, aprox. 500 unidades/hora |
Gerador de plasma |
Frequência 13,56 MHz, potência ajustável de 0 a 600 W com correspondência automática de impedância. |
Sistema de caminho de gás |
A configuração padrão inclui 2 canais (O₂/Ar/H₂), controlados por medidores de fluxo de massa, vazão de gás ajustável de 0 a 200ml/min. |
Sistema de controle |
Tela sensível ao toque + controle PLC totalmente automático |
Tamanho do equipamento |
2140 (L) × 1340 (P) × 1760 (A) mm |
◇◇ Área de aplicação ◇◇
Campo IC de semicondutores, tratamento médico, placas de circuito impresso, eletrônica automotiva, aeroespacial, etc.