Обладнання для вакуумного онлайн-плазмового очищення

Обладнання для плазмового очищення готує поверхні продукту шляхом активації, очищення, травлення та видалення фоторезисту. Цей процес покращує змочуваність поверхні, покращує адгезію для операцій нанесення покриттів, покриттів та склеювання та ефективно видаляє забруднення, такі як масла та органічні залишки.

Він забезпечує надійну попередню обробку поверхні для важливих процесів, включаючи друк, покриття, ламінування та інкапсуляцію, одночасно вирішуючи загальні проблеми, такі як погана адгезія, нерівне покриття та слабке з’єднання.

Широко використовується для очищення та активації перед склеюванням/литтям, очищення поверхонь для упаковки чіпів/світлодіодів/IGBT/пристроїв живлення з можливістю налаштування для нестандартних вимог процесу.

Наявність:

кількість:



Запит Додати в кошик

модель:
PTC-CCP-40L
Бренд:
PTC

Опис товару

◇◇ Особливості ◇◇

Безперервне онлайн-виробництво забезпечує безперебійне з’єднання з попередніми та наступними процесами, зменшуючи ручну обробку, знижуючи витрати та кількість помилок.
Умови вакууму можна добре контролювати, а параметри процесу (тиск повітря, склад газу, потужність тощо) легко точно регулювати та повторювати, забезпечуючи стабільність між партіями.
Висока рівномірність обробки: добре розроблені структури електродів і камер у поєднанні з контролем поля потоку газу забезпечують рівномірну обробку заготовок великої площі та складної форми.
Висока надійність. Завдяки конструкції промислового класу для ключових компонентів (таких як вакуумні насоси, радіочастотні/мікрохвильові генератори та відповідні пристрої) вибрано високоякісні продукти, щоб забезпечити стабільність і надійність тривалої безперервної роботи.
Адаптація до складних заготовок: завдяки розумно сконструйованим інструментальним пристосуванням і конвеєрним системам він може обробляти плоскі, тривимірні вигнуті заготовки та деталі неправильної форми.
Плазмова очистка пропонує екологічно чисту, ефективну та контрольовану суху альтернативу традиційним методам очищення на основі розчинників.

◇◇ Технічні характеристики ◇◇

Розмір продукту	Довжина: 150-270 мм, Ширина: 35-95 мм
Розмір реакційної камери	61032047 мм
Ефективність	4 канали з 4 шт., прибл. 500 шт/год
Генератор плазми	Частота 13,56 МГц ± 0,05%, регульована потужність 0 - 1000 Вт з автоматичним узгодженням імпедансу.
Система газового тракту	Стандартна конфігурація включає 2 канали (O₂/Ar/H₂/N ₂), контрольовані масовими витратомірами, регульована витрата газу 0-300мл/хв.
Вакуумний насос	Сухий насос / масляний насос
Швидкість відкачування	60м⊃3;/год
Граничний ступінь вакууму	≤5Па
Робочий діапазон вакууму	10-150 Па
Час евакуації	≤ 40 с
Час розрідження	≤ 15 с
Система контролю	Сенсорний екран + ПЛК повністю автоматичне керування
Розмір обладнання	2100 (Ш) × 1300 (Г) × 1800 (В) мм
вага	Близько 2000 кг

◇◇ Область застосування ◇◇

Ця машина для плазмового очищення застосовна в наступних областях:

· промисловість друкованих плат (PCB) – поверхнева активація високочастотних плат; очищення поверхні та знемазування багатошарових плит; очищення поверхонь і знемазування гнучких і жорстко-гнучких плит; і активація перед нанесенням ребер жорсткості на гнучкі плити.

· Напівпровідникове поле IC – процеси, включаючи COB, COG, COF, ACF, SOT, SIP і SOP, для очищення перед склеюванням проводів і паянням.

· Сектор силікону, пластику та полімеру – нарощування поверхні, травлення та активація силіконових, пластикових та полімерних матеріалів.

Попередній:

далі:

Супутні товари

Обладнання для вакуумного радіочастотного плазмового очищення

Широкоформатне плазмове обладнання для вимірювання атмосферного тиску

Атмосферне широкоформатне плазмове обладнання

Обладнання для вакуумного онлайн-плазмового очищення

Супутні товари

Контактна інформація

Слідкуйте за нами

Швидкі посилання