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| Menge: | |
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PTC-CCP110
PTC
◇◇ Übersicht ◇◇
Es bietet eine zuverlässige Oberflächenvorbehandlung für kritische Prozesse wie Drucken, Beschichten, Laminieren und Einkapseln und behebt gleichzeitig häufige Probleme wie schlechte Haftung, ungleichmäßige Beschichtung und schwache Bindung. Darüber hinaus bietet die Plasmareinigung eine umweltfreundliche, effiziente und kontrollierbare Trockenalternative zu herkömmlichen lösungsmittelbasierten Reinigungsmethoden.
◇◇ Zusammensetzung ◇◇
Besteht hauptsächlich aus Vakuumkammer, Elektrodenplatten, Hochfrequenz-(RF)-Stromversorgung, Matcher und Vakuumpumpe.
◇◇ Funktionen ◇◇
Niedrige Temperatur und schnelle Verarbeitung: Arbeitet nahe Raumtemperatur (<50 °C) mit kurzen Zykluszeiten und verhindert so Schäden an hitzeempfindlichen Materialien.
Hervorragende Reinigung: Entfernt Verunreinigungen im Bereich von ≤ 0,1 nm und übertrifft damit die Grenzen herkömmlicher Nassreinigungsmethoden.
Umweltfreundlicher und trockener Prozess: Eliminiert chemische Lösungsmittel und Abwasser; Verwendet inerte/reaktive Gase, ohne giftige Nebenprodukte zu erzeugen.
Intelligent und rückverfolgbar: Bietet intelligente Prozesssteuerung mit vollständiger Rückverfolgbarkeit der Produktionsdaten.
◇◇ Prozessleistung ◇◇
vor der Behandlung, Kontaktwinkel = 85,6°, nach der Behandlung, Kontaktwinkel = 14,3°
◇◇ Technische Spezifikationen ◇◇
Kammerkapazität |
110L |
| Kammergröße | 525 (B) × 445 (T) × 495 (H) mm |
| Leistungsbereich | Stufenlos einstellbar von 0-600 W, Genauigkeit ±1 % |
| Radiofrequenz | 13,56 MHz ± 0,05 % |
| Verarbeitungsgeschwindigkeit | 3–10 Minuten (abhängig von der Verarbeitungsleistung) |
| Nachbearbeitungsleistung | Wasserkontaktwinkel < 15° |
| Matching-Methode | Automatisches Impedanzanpassungsnetzwerk |
| Elektrodentyp | Kapazitive Parallelplattenkopplung |
| Elektrodenmaterial | Eloxiertes Aluminium |
Konfiguration der Elektrodenplatte |
Horizontal, 4 Elektroden (Anzahl der horizontalen Elektrodenschichten oder Höhe einstellbar) Das Laden von Kassetten ist möglich |
Methode zur Elektrodenbefestigung |
Plug-in abnehmbar |
Vakuumpumpe |
Mechanische Drehschieberpumpe |
Pumpgeschwindigkeit |
60m³/h |
Ultimativer Vakuumgrad |
≤5Pa |
Betriebsvakuumbereich |
10-100Pa |
Kanalnummer des Prozessgases |
Standard 2 Kanäle. Mehrere Kanäle sind optional |
| Gasarten | Ar, O₂, N₂, H₂. Korrosives Gas CF₄ ist optional |
| Gaskontrollmethode | Massendurchflussregler (MFC) |
| MFC-Messbereich und Genauigkeit | 0–300 sccm, Genauigkeit ±2 % FS |
| Größe des Ladefachs | 400 mm (L) * 473 mm (B) |
| Gerätegröße | 900 (B) × 1100 (T) × 1750 (H) mm (ohne die Höhe des dreifarbigen Lichts) |
| Gewicht der Ausrüstung | Etwa 450 kg |
◇◇ Anwendungsbereich ◇◇
