| Disponibilité: | |
|---|---|
| Quantité: | |
PTC-CCP110
CTP
◇◇ Aperçu ◇◇
Il fournit un prétraitement de surface fiable pour les processus critiques, notamment l'impression, le revêtement, le laminage et l'encapsulation, tout en résolvant les problèmes courants tels qu'une mauvaise adhérence, un revêtement irrégulier et une faible liaison. De plus, le nettoyage au plasma offre une alternative sèche écologique, efficace et contrôlable aux méthodes de nettoyage traditionnelles à base de solvants.
◇◇ Composition ◇◇
Principalement composé d'une chambre à vide, de plaques d'électrodes, d'une alimentation radiofréquence (RF), d'un matcher et d'une pompe à vide.
◇◇ Caractéristiques ◇◇
Traitement rapide et à basse température : fonctionne à température ambiante (<50 °C) avec des temps de cycle courts, évitant ainsi d'endommager les matériaux sensibles à la chaleur.
Nettoyage supérieur : élimine les contaminants au niveau ≤ 0,1 nm, dépassant les limites des méthodes traditionnelles de nettoyage humide.
Processus écologique et sec : élimine les solvants chimiques et les eaux usées ; utilise des gaz inertes/réactifs sans générer de sous-produits toxiques.
Intelligent et traçable : offre un contrôle intelligent des processus avec une traçabilité complète des données de production.
◇◇ Performance du processus ◇◇


avant traitement , angle de contact = 85,6° après traitement , angle de contact = 14,3°
◇◇ techniques Spécifications ◇◇
Capacité de la chambre |
110L |
| Taille de la chambre | 525(L)×445(P)×495(H)mm |
| Plage de puissance | Réglable en continu de 0 à 600 W, précision ±1 % |
| Radiofréquence | 13,56 MHz ± 0,05 % |
| Vitesse de traitement | 3 à 10 minutes (sous réserve des performances de traitement) |
| Performances de post-traitement | Angle de contact avec l'eau < 15° |
| Méthode de correspondance | Réseau d'adaptation d'impédance automatique |
| Type d'électrode | Couplage capacitif à plaques parallèles |
| Matériau de l'électrode | Aluminium anodisé |
Configuration de la plaque d'électrode |
Horizontal, 4 électrodes (le nombre de couches d'électrodes horizontales ou la hauteur peut être ajusté) Le chargement de cassettes est disponible |
Méthode de fixation des électrodes |
Plug-in détachable |
Pompe à vide |
Pompe mécanique à palettes |
Vitesse de pompage |
60m³/heure |
Degré de vide limite |
≤5Pa |
Plage de vide de fonctionnement |
10-100Pa |
Numéro de canal du gaz de procédé |
Standard 2 canaux. Plusieurs canaux sont facultatifs |
| Types de gaz | Ar, O₂, N₂, H₂. Le gaz corrosif CF₄ est facultatif |
| Méthode de contrôle du gaz | Contrôleur de débit massique (MFC) |
| Plage de mesure et précision du MFC | 0-300 sccm, précision ±2 % FS |
| Taille du bac de chargement | 400 mm (L) * 473 mm (L) |
| Taille de l'équipement | 900 (L) × 1 100 (P) × 1 750 (H) mm (hors hauteur de la lumière tricolore) |
| Poids de l'équipement | Environ 450 kg |
◇◇ Un domaine d'application ◇◇
Packaging de semi-conducteurs (décollage, activation de surface), fabrication de puces LED, électronique 3C, Circuit Board, Biomédecine, Nouvelles énergies, Aviation militaire.