Equipo de limpieza por plasma por radiofrecuencia al vacío

◇◇ Descripción general  ◇◇

 Proporciona un pretratamiento de superficie confiable para procesos críticos que incluyen impresión, recubrimiento, laminación y encapsulación, al mismo tiempo que aborda problemas comunes como mala adhesión, recubrimiento desigual y unión débil. Además, la limpieza con plasma ofrece una alternativa en seco ecológica, eficiente y controlable a los métodos de limpieza tradicionales a base de disolventes.

  ◇◇  Composición  ◇◇

Compuesto principalmente por cámara de vacío, placas de electrodos, fuente de alimentación de radiofrecuencia (RF), comparador y bomba de vacío.

◇◇  Características  ◇◇

• Procesamiento rápido y a baja temperatura: funciona cerca de la temperatura ambiente (<50 °C) con tiempos de ciclo cortos, lo que evita daños a los materiales sensibles al calor.

• Limpieza superior: Elimina contaminantes a un nivel≤0,1 nm, superando los límites de los métodos tradicionales de limpieza en húmedo.

• Proceso seco y ecológico: Elimina solventes químicos y aguas residuales; Utiliza gases inertes/reactivos sin generar subproductos tóxicos.

• Inteligente y trazable: presenta un control de procesos inteligente con trazabilidad completa de los datos de producción.

  
  

           ◇◇ Rendimiento del proceso  ◇◇

                             

                                     antes del tratamiento, ángulo de contacto = 85,6° después del tratamiento, ángulo de contacto = 14,3°

◇◇  técnicas Especificaciones  ◇◇

Capacidad de la cámara	110L
Tamaño de la cámara	525 (ancho) × 445 (profundidad) × 495 (alto) mm
Rango de potencia	Ajustable continuamente de 0 a 600 W, precisión ±1 %
radiofrecuencia	13,56MHz ± 0,05%
Velocidad de procesamiento	3~10 minutos (sujeto al rendimiento del procesamiento)
Rendimiento de posprocesamiento	Ángulo de contacto con el agua < 15°
método de emparejamiento	Red automática de adaptación de impedancia
Tipo de electrodo	Acoplamiento capacitivo de placas paralelas
Material del electrodo	Aluminio anodizado
Configuración de la placa de electrodos	Horizontal, 4 electrodos (se puede ajustar el número de capas de electrodos horizontales o la altura) La carga de casetes está disponible
Método de fijación del electrodo.	Enchufe desmontable
bomba de vacío	Bomba mecánica de paletas rotativas
Velocidad de bombeo	60m³/hora
Grado de vacío máximo	≤5Pa
Rango de vacío operativo	10-100Pa
Número de canal de gas de proceso	Estándar 2 canales. Múltiples canales son opcionales
Tipos de gas	Ar, O₂, N₂, H₂. El gas corrosivo CF₄ es opcional
Método de control de gases	Controlador de flujo másico (MFC)
Rango de medición y precisión del MFC	0-300 sccm, precisión ±2% FS
Tamaño de la bandeja de carga	400 mm (largo) * 473 mm (ancho)
Tamaño del equipo	900(W)×1100(D)×1750 (H)mm (excluyendo la altura de la luz tricolor)
Peso del equipo	Alrededor de 450 kg.

◇◇  Un área de aplicación  ◇◇