|
| Kvantitet: | |
|---|---|
PTC-CCP110
PTC
◇◇ Översikt ◇◇
Det ger en pålitlig ytförbehandling för kritiska processer inklusive tryckning, beläggning, laminering och inkapsling, samtidigt som den tar itu med vanliga problem som dålig vidhäftning, ojämn beläggning och svag vidhäftning. Dessutom erbjuder plasmarengöring ett miljövänligt, effektivt och kontrollerbart torrt alternativ till traditionella lösningsmedelsbaserade rengöringsmetoder.
◇◇ Komposition ◇◇
Huvudsakligen sammansatt av vakuumkammare, elektrodplattor, radiofrekvens (RF) strömförsörjning, matcher och vakuumpump.
◇◇ Funktioner ◇◇
Låg temperatur och snabb bearbetning: Fungerar nära rumstemperatur (<50°C) med korta cykeltider, vilket förhindrar skador på värmekänsliga material.
Överlägsen rengöring: Tar bort föroreningar på nivån ≤0,1nm, överträffar gränserna för traditionella våtrengöringsmetoder.
Miljövänlig och torr process: Eliminerar kemiska lösningsmedel och avloppsvatten; använder inerta/reaktiva gaser utan att generera giftiga biprodukter.
Intelligent och spårbar: Har smart processkontroll med full spårbarhet för produktionsdata.
◇◇ Processprestanda ◇◇
före behandling, kontaktvinkel = 85,6° efter behandling, kontaktvinkel = 14,3°
◇◇ Tekniska specifikationer ◇◇
Kammarkapacitet |
110L |
| Kammarstorlek | 525(B)×445(D)×495(H)mm |
| Effektområde | Kontinuerligt justerbar från 0-600W, precision ±1% |
| Radiofrekvens | 13,56 MHz ± 0,05 % |
| Bearbetningshastighet | 3~10 minuter (beroende på bearbetningsprestanda) |
| Efterbearbetningsprestanda | Vattenkontaktvinkel < 15° |
| Matchningsmetod | Automatiskt impedansmatchande nätverk |
| Typ av elektrod | Parallellplatta kapacitiv koppling |
| Elektrodmaterial | Anodiserad aluminium |
Elektrodplattans konfiguration |
Horisontell, 4 elektroder (antalet horisontella elektrodlager eller höjd kan justeras) Kassettladdning är tillgänglig |
Elektrodfixeringsmetod |
Plug-in avtagbar |
Vakuumpump |
Mekanisk roterande skovelpump |
Pumphastighet |
60m³/h |
Ultimat vakuumgrad |
≤5Pa |
Driftvakuumområde |
10-100Pa |
Kanalnummer för processgas |
Standard 2 kanaler. Flera kanaler är valfria |
| Gastyper | Ar, O2, N2, H2. Frätande gas CF₄ är tillval |
| Gaskontrollmetod | Mass Flow Controller (MFC) |
| MFC mätområde och noggrannhet | 0-300 sccm, noggrannhet ±2% FS |
| Laddar fack storlek | 400 mm(L）*473mm(W) |
| Utrustningsstorlek | 900(B)×1100(D)×1750 (H)mm (exklusive höjden på trefärgat ljus) |
| Utrustningens vikt | Ca 450 kg |
◇◇ Ett tillämpningsområde ◇◇
